RF maitinimo šaltinis
-
RLS serijos RF maitinimo šaltinis
RLS serijos RF maitinimo šaltinis naudoja dabartinį stabilų ir patikimą galios stiprintuvą ir įmonės pagrindinę nuolatinės srovės valdymo sistemą, todėl gaminys turi labai stabilų veikimą ir aukštą produkto patikimumą.Priimkite kinų ir anglų ekrano sąsają, kurią lengva valdyti.Daugiausia naudojama fotoelektros pramonėje, plokščiųjų ekranų pramonėje, puslaidininkių pramonėje, chemijos pramonėje, laboratorijoje, moksliniuose tyrimuose, gamyboje ir kt.
-
RMA serijos atitikmenys
Jis gali būti pritaikytas prie RLS serijos RF maitinimo šaltinio ir yra plačiai naudojamas plazminio ėsdinimo, dengimo, plazmos valymo, plazmos pašalinimo ir kituose procesuose.Kai naudojamas vienas, jis gali būti naudojamas kartu su kitų gamintojų RF maitinimo šaltiniais.
-
RHH serijos RF maitinimo šaltinis
RHH serijos RF maitinimo šaltinis priklauso nuo brandžios RF generavimo technologijos, kad klientams būtų suteikta didesnė galia, didesnis tikslumas ir greitas atsakas.Su faze galima nustatyti, valdyti impulsą, skaitmeninį derinimą ir kitas funkcijas.Taikomos sritys: fotovoltinė pramonė, plokščių ekranų pramonė, puslaidininkių pramonė, chemijos pramonė, laboratorija, moksliniai tyrimai, gamyba ir kt.
Taikomi procesai: plazmos sustiprintas cheminis nusodinimas garais (PECVD), plazminis ėsdinimas, plazmos valymas, radijo dažnio jonų šaltinis, plazmos difuzija, plazmos polimerizacijos dulkinimas, reaktyvusis dulkinimas ir kt.